| 國立故宮博物院正積極配合目前「挑戰二○○八：國家發展重點計畫」其中一項,文化創意產業發展計畫,期待藉由結合文化藝術創作和商業機制,以創造具文化特色之產品,藉以增強人民的文化認同與增加產業的附加價值,由創意巧思衍生出各類的文化產業發展。為了更積極推動圖像授權及品牌授權業務,於今年6月份參加「2006年紐約國際授權展」。「紐約授權展」係全球最具規模及指標性之授權商業展覽會,舉辦至今已有26屆,展出內容以各式授權（例:圖像授權、藝術授權、品牌授權等）之商談為主要特色,每年約有來自70多國,超過20,000人蒞臨參觀,包括全球知名製造商、零售商等。每年均召開盛大記者會,邀集全世界近130間知名媒體和報章雜誌專訪報導。本院於展前配合台灣主辦單位（行政院國家科學委員會、國科會數位典藏國家型科技計畫）所舉辦的參展說明會、國內記者會、聯合主題宣傳網頁、授權產品目錄（光碟、網路、實體書）、展出brochure、DM文宣、中外邀請卡、國際授權專書廣告、展出現場舉辦多樣化活動及展後國內成果發表會等各式推廣規劃。總媒體報導曝光次逾數十次,網路點數逾萬筆。於展出的3天（2006年6月20日至2005年6月22日,紐約時間）,有各路的製造商、經紀商及藝術家等等詢問接洽；希藉此盛會,將故宮品牌及中華文化藝術圖像精萃推展於國際,期望在全球超過1728億美元之授權市場中,期望能促成本院更多的品牌及圖像授權之商機,藉此提升故宮國際競爭力。 |