2007-08-19 至 2007-08-30
共 3 位
| 系統識別號 | C09602411 |
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| 主題分類 | 法務 |
| 施政分類 | 法務 |
| 計畫名稱 | 赴日本研習「商標授權制度、商標審判制度以及商標權與意匠權、著作權及特許權衝突處理機制之探討」 |
| 報告名稱 | 商標授權制度,商標審判制度,商標權與意匠權、著作權及特許權衝突處理機制之探討─2007年度台日技術合作計畫 |
| 電子全文檔 | |
| 報告日期 | 2007-11-14 |
| 報告書頁數 | 61 |
| 出國期間 | 2007-08-19 至 2007-08-30 |
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| 前往地區 |
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| 參訪機關 | 日本特許廳 |
| 出國類別 | 研究 |
| 關鍵詞 | 商標授權制度,商標審判制度,商標權與意匠權,著作權及特許權衝突處理機制 |
| 計畫主辦機關 | 經濟部智慧財產局 | ||||||||||||||||||||
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| 出國人員 |
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| 研習日本現階段之商標審查相關法規與實務案例,尤其以日本商標授權制度,商標審判制度,商標權與意匠權、著作權及特許權衝突處理機制之探討為主,從而提升商標審查品質,達成加強保護智慧財產權之效益。增進與日本智慧財產權相關單位之交流,俾有助於國際間智慧財產權發展趨勢之瞭解,增進台日雙邊貿易往來關係。 |
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